surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀
本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可......
型号:HJ20-X-100B
旋片式真空泵，工作时用的机械真空泵油润滑及密封机件，主要用于抽除清洁空气和对油不起化学变化的气体，不适宜抽含氧过高的、有爆炸性的、对金属起腐蚀的和含有颗粒尘埃的气体。
旋片式真空泵，可供真空镀膜、灯泡、热水瓶、电子管、医疗、化工和实验室等各种真空作业用，此泵可单独使用，也可作为增压泵、扩散泵、分子泵的前级泵。
主要参数：
100L/S
7.5KW
限真空：1Pa
适用工艺行业